| 产品名称 | 等离子体清洗仪 | ||||||
| 规格型号 | VM500 | ||||||
| 产品用途 | 低温等离子表面处理设备主要由真空腔体、高频等离子电源、真空抽气系统、气体流量控制系统及全自动控制系统等核心模块组成。 设备工作原理为:通过高频发生器对工艺气体进行电离,形成高均匀性辉光放电等离子体。利用等离子体中高活性微观粒子与材料表面发生物理及化学反应,可实现表面亲水改性、降低表面摩擦系数、超净清洗、表面活化、微蚀刻等多种表面处理效果。 | ||||||
| 产品特点 | ●工艺流程简洁,产品成品率高;键合速率快、结合强度优异,工艺稳定性强。 ●整机采用模块化结构设计,体积小巧紧凑,安装便捷、维护简单,适配实验室科研及小批量生产场景。 ●采用PLC+触摸屏智能自控系统,工艺参数可预设存储,一键启动即可全自动完成整套处理流程。 ●等离子清洗全程温升极低,实现近常温处理,避免热敏性样品受热损伤。 ●标配两路工艺气体通路,射频功率支持无极连续可调,满足多样化工艺需求。 ●搭载特制电极与样品托盘结构,充分利用真空腔体内部空间,处理效率大幅提升,确保样品表面清洗全面、作用均匀有效。 ●内置过载、短路、过热多重保护电路,保障射频电源长期稳定运行,设备使用安全可靠 | ||||||
| 系统参数 | |
| 参数类别 | 技术规格 |
| 设备外形尺寸 | 450mm*400mm*260mm(立式结构) |
| 真空仓体尺寸 | Φ151mm*285mm(L) (体积5L) |
| 仓体结构 | 不锈钢腔体,内置容性耦合电极,无污染,内置石英托盘。 |
| 等离子发生器 | 频率40kHz ,功率0-300W调节,全电路保护,连续长时间工作(风冷)。 |
| 控制系统 | PLC+4.3存触摸屏全自动控制,美国产真空压力传感系统,具有故障报警、工艺记忆参数等多种功能; 可在线设定、修改、监控真空压力、处理时 间、等离子功率等工艺参数。 |
| 控制模式 | 自动控制和手动控制两种模式。在自动模式下设置各项工艺参 数,即可一键启动,连续重复运行。 |