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VM500等离子表面处理仪
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  • 产品介绍

产品名称等离子体清洗仪
规格型号VM500
产品用途

低温等离子表面处理设备主要由真空腔体、高频等离子电源、真空抽气系统、气体流量控制系统及全自动控制系统等核心模块组成。

设备工作原理为:通过高频发生器对工艺气体进行电离,形成高均匀性辉光放电等离子体。利用等离子体中高活性微观粒子与材料表面发生物理及化学反应,可实现表面亲水改性、降低表面摩擦系数、超净清洗、表面活化、微蚀刻等多种表面处理效果。

产品特点●工艺流程简洁,产品成品率高;键合速率快、结合强度优异,工艺稳定性强。

●整机采用模块化结构设计,体积小巧紧凑,安装便捷、维护简单,适配实验室科研及小批量生产场景。

●采用PLC+触摸屏智能自控系统,工艺参数可预设存储,一键启动即可全自动完成整套处理流程。

●等离子清洗全程温升极低,实现近常温处理,避免热敏性样品受热损伤。

●标配两路工艺气体通路,射频功率支持无极连续可调,满足多样化工艺需求。

●搭载特制电极与样品托盘结构,充分利用真空腔体内部空间,处理效率大幅提升,确保样品表面清洗全面、作用均匀有效。

●内置过载、短路、过热多重保护电路,保障射频电源长期稳定运行,设备使用安全可靠


  • 技术参数

系统参数
参数类别技术规格
设备外形尺寸450mm*400mm*260mm(立式结构)
真空仓体尺寸Φ151mm*285mm(L)  (体积5L)
仓体结构不锈钢腔体,内置容性耦合电极,无污染,内置石英托盘。
等离子发生器频率40kHz ,功率0-300W调节,全电路保护,连续长时间工作(风冷)。
控制系统PLC+4.3存触摸屏全自动控制,美国产真空压力传感系统,具有故障报警、工艺记忆参数等多种功能;
可在线设定、修改、监控真空压力、处理时 间、等离子功率等工艺参数。
控制模式自动控制和手动控制两种模式。在自动模式下设置各项工艺参 数,即可一键启动,连续重复运行。