| 产品名称 | 紫外光刻机 | ||||||
| 规格型号 | URE‑2000/35L | ||||||
| 产品简介 | 步进式紫外光刻机，以紫外光为能源，可将掩膜图案高精度转移至光刻胶/光敏材料，核心功能为加工微米级微通道、反应腔与阵列结构，广泛用于微流控芯片模具加工以及制造小规模集成电路半导体器件、红外器件、声表器件、微机电系统(MEMS)等，具有操作方便、性能稳定可靠等特点。该设备还可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑。该设备性能稳定，多年来在学科建设、人才培养、高水平文章发表等方面更好的为科技研究做出贡献。 | ||||||
| 产品特点 | 一键完成多基片微纳结构设计图案的顺序加工 不同分辨率激光加工模块快速切换 256级灰度3D 加工 0.6-5μm 直写分辨率 | ||||||
| 系统参数 | ||
| 参数类别 | 技术规格 | |
| 曝光波长 | 365nm | |
| 光源 | LED | 进口LED |
| 光源平行性 | ≤2.5° | ≤2° |
| 曝光分辨率 | 0.8-1μm | 0.8-1μm |
| 对准/套准精度 | ±1μm | ±0.8-1μm |
| 曝光能量密度 | ＞40mW/cm²可调 | ＞35mW/cm²可调 |
| 照度不均匀性 | ≤2.5%（Φ100mm） | ≤2.5%（Φ150mm） |
| 曝光面积 | 4寸 | 160mm*160mm |
| 支持掩模 | 5寸 | 3/4/5/7寸 |
| 样片尺寸 | 4寸 | 2/3/4/6寸 |
| 样片厚度 | 0.1-2mm | 0.1-6mm |
| 样片-掩模版相对移动范围 | X±5mm/Y±5mm/θ±6° | X±5mm/Y±5mm/θ±6° |
| 曝光模式 | 四模式：真空接触 / 硬接触 / 压力接触 / 接近式 | |
| 对准方式 | 双目双视场+CCD | 光学+CCD |
| 冷却方式 | 风冷 | 风冷 |
| 曝光模式 | 四模式：真空接触 / 硬接触 / 压力接触 / 接近式 | |
| 设备尺寸 | 1400mm*900mm*1500mm（长*宽*高） | |
